مدل سازی تخلیه های غیر تعادلی در دمای پایین با استفاده از ماژول پلاسما در کامسولچهارشنبه 07, آوریل 2021

مدل سازی تخلیه های غیر تعادلی در دمای پایین با استفاده از ماژول پلاسما در کامسول
در ادامه آموزش های سایت همیارپروژه نرم افزار کامسول ارائه خواهد شد .آموزشها از مقدماتی تا پیشرفته ادامه دارد و ما به شما کدنویسی در نرم افزار کامسول را یاد خواهیم داد. با ما همراه باشید.
تخلیه های غیر تعادلی در دمای پایین در کامسول
یک سیم پیچ مربع در بالای یک پنجره دی الکتریک قرار دارد و دچار برانگیختگی الکتریکی می شود که در همین حال ، پلاسما در یک محفظه پر از آرگون در زیر آن تشکیل می شود. پلاسما از طریق القای الکترومغناطیسی که در آن قدرت از میدانهای الکترومغناطیسی به الکترون ها منتقل می شود ، پایدار می شود
ماژول پلاسما
ماژول پلاسما برای مدل سازی و شبیه سازی منابع و سیستم های دمای پایین طراحی شده است. مهندسان و دانشمندان از آن برای به دست آوردن درک فیزیکی در مورد تخلیه های الکتریکی و سنجش عملکرد طرح های موجود یا در طرح های بالقوه استفاده می کنند . این ماژول می تواند تجزیه و تحلیل را در همه ابعاد فضایی یک ، دو و سه بعدی انجام دهد . سیستم های پلاسما از نظر ماهیت سیستم های پیچیده ای هستند که میزان غیرخطی بودن بالایی دارند .تغییرات کوچک در ورودی الکتریکی یا
شیمیایی پلاسما می تواند منجر به تغییرات چشمگیر در مشخصات تخلیه شود (اثر پروانه ای).
پلاسما یک سیستم چند فیزیکی اثر گذار در کامسول
پلاسما با درجه حرارت پایین ، آمیختگی از مکانیک سیالات ، واکنش ، سینتیک ، انتقال گرما ، انتقال جرم و الکترومغناطیسی می باشد و یا به عبارت دیگر سیستم چند فیزیکی اثرگذار . ماژول پلاسما، یک ابزار تخصصی برای مدل سازی تخلیه های غیر تعادلی است که در طیف گسترده ای از رشته های مهندسی به کار می آید . ماژول پلاسما از مجموعه ای از رابط های فیزیکی تشکیل شده است که به سیستم های دلخواه شما اجازه مدل سازی شدن می دهند . این روابط از مدل سازی پدیده هایی مانند: تخلیه جریان مستقیم ، پلاسماهای القایی و پلاسماهای مایکروویو را پشتیبانی می کنند . مجموعه ای از مدل های نمونه ، همراه با توصیفات گام به گام از روند مدل سازی ، به
همراه یک راهنمای کاربر ، در ماژول پلاسما comsol می باشد.
طیف سنجی پلاسمای جفت شده القایی در کامسول
پلاسماهای جفت شده القایی برای اولین بار در دهه ۱۹۶۰ به عنوان پلاسمای حرارتی در تجهیزات پوششی مورد استفاده قرار گرفت . این دستگاه ها تحت فشار ۰٫۱ اتمسفر عمل می کردند و دمای گاز را به سفارش۱۰۰۰ کلوین تولید می کردند. در دهه ۱۹۹۰ ICP در صنعت پردازش فیلم به عنوان روشی برای ساخت ویفرهای نیمه هادی بزرگ معرفی شد . این پلاسماها در رژیم کم فشاراز ۰٫۰۰۲ – torr ۱ عمل می کردند و در دمای گاز نزدیک به دمای اتاق می ماند ICP. های کم فشار ،جذاب هستند زیرا چگالی پلاسما نسبتاً یکنواخت را در حجم زیادی ایجاد می کنند . تراکم پلاسما نیز زیاد است ، در حدود ۱*۱۰^۱۸ بر سانتی متر مکعب که منجر به شار یون قابل توجهی به سطح ویفر می شود. سپرهای فارادی اغلب به منظور کاهش تأثیر اتصال خازنی بین پلاسما و سیم پیچ محرک اضافه می شوند . رابط پلاسماInductively Coupled به طور خودکار اتصال جفت پیچیده ای بین الکترون ها و میدان های الکترومغناطیسی با فرکانس بالا که در این نوع پلاسما وجود دارد را تنظیم می کند . رابط پلاسما Inductively Coupled به ماژول پلاسما و ماژول AC / DC نیاز دارد.
مدل سازی تجزیه و تحلیل های اولیه فرآیندهای پلاسما در کامسول
برای مدل سازی فرآیندهای پلاسما لازم است قبل از بهینه سازی فرآیند خود را با مدل سازی دقیق تر ، تجزیه و تحلیل نمایید. مدل سازی فراگیر با استفاده از معادلات دیفرانسیل معمولی در مدل پلاسما، درجه آزادی مدل های شما را کاهش می دهد. این کار اجازه می دهد تا واکنش شیمیایی پیچیده قبل از اجرای مدلهای وابسته به فضا ، آزمایش و تأیید شوند . این در حالی است که هندسه راکتور ، شیمی سطح و جریان خوراک همگی همچنان در نظر گرفته می شوند.
در اینجا آشنایی با نرم افزار کامسول بخش هفتم به اتمام رسیده است و در آموزش های بعدی به مباحث دیگر آموزش کامسول می پردازیم. همچنین از شما مخاطبین عزیز سایت همیارپروژه دعوت می کنم که برای انجام پروژه کامسول خود آموزش های ما را دنبال نمایید.
نویسنده : زهرا رستمی
جهت سفارش پروژه به لینک زیر مراجعه نمایید :
همچنین می توانید برای ارتباط سریعتر با شماره و آیدی تلگرام زیر تماس حاصل کنید :
۰۹۱۲۹۵۴۰۱۲۲ – آیدی تلگرام : @fnalk
از طریق کلیک برروی آیکن های زیر میتوانید پروژه خود را در تلگرام و یا واتساپ برای ما ارسال کنید:
دیدگاهتان را بنویسید